深圳市恒运昌真空技术股份有限公司（以下简称“恒运昌”）经过现场检查后将于本周五迎来科创板IPO上会申请。
据了解，恒运昌以深厚的研发积累和持续的技术创新，在半导体设备核心部件——等离子体射频电源领域取得实质性突破。通过自主研发，公司实现了先进制程应用的稳定量产，打通了国内半导体设备产业链中的关键环节，为国产设备供应体系的完全自主可控提供了重要支撑，推动半导体设备的高质量发展。
聚焦核心技术，形成领先产品体系
等离子体射频电源是半导体制造装备的核心部件之一，承担薄膜沉积、刻蚀、离子注入等工艺中的能量控制，其性能直接影响芯片的良率与一致性。恒运昌自成立以来一直专注于的研发，持续推动产品升级迭代，现已形成覆盖多制程工艺的完整产品体系。
公司自主开发的CSL、Bestda与Aspen系列电源，已分别实现常规、成熟与先进制程的应用覆盖，其中新一代产品在功率控制精度、阻抗匹配速度、稳定性及可靠性等方面达到国际先进水平，可满足7至14纳米工艺需求。
恒运昌以“系统化设计”理念推进产品创新，不仅提供单一电源设备，还能根据工艺需求配套射频匹配器、控制模块及算法系统，构建“电源+匹配+算法”的一体化解决方案。这一体系化能力，使公司在产品适配性、可靠性和交付效率上形成了差异化优势。
验证量产并广泛应用，市场地位稳步提升
半导体设备核心部件的市场验证周期较长，产品需通过半导体设备厂商和晶圆厂的长期工艺测试与可靠性评估。恒运昌凭借产品性能的稳定性与工程化能力，已顺利通过多家主流设备厂商的验证并实现批量供货。
目前，公司产品已应用于国内领先的薄膜沉积、刻蚀、清洗等设备平台，配套服务于新建及在产晶圆制造产线，助力多家厂商实现产能提升与良率优化。凭借在高功率射频输出、响应速度与能量一致性等关键指标上的性能表现，恒运昌在国产同类产品中市场份额位列第一，品牌影响力持续提升。
强化创新与布局，推动产业链协同发展
研发创新是恒运昌的核心驱动力。近年来，公司不断加码研发投入，构建了3大基石技术及8大产品化支撑技术的完整架构。截止今年6月30日，公司拥有已授权发明专利108项，在申请发明专利133项，并承担多项国家及省市级科技项目，研发方向覆盖高频功率控制、智能阻抗匹配及系统算法优化等领域。
报告期内，2025年上半年及2024年恒运昌自研产品收入占比超过八成，其中等离子体射频电源系统是主要增长来源。
为进一步提升产能与技术水平，公司正在推进多个产业化与研发项目建设，包括沈阳半导体射频电源系统产业化基地和前沿技术创新中心，旨在构建更高效的智能制造与技术验证平台，提升关键零部件的国产化配套能力。
随着国内晶圆制造产能的持续扩张和设备国产替代的深入推进，高性能射频电源系统的需求不断增长。恒运昌依托自主创新与产业协同，已成为国内半导体设备供应链中的关键环节。公司以稳健的产品能力和技术积累，推动我国半导体装备产业向更高层次的自主可控迈进。
恒运昌的发展历程体现了中国半导体核心零部件领域的持续进步。通过长期研发投入、严格的质量体系和稳定的量产能力，公司实现了从技术突破到产业化落地的跨越。在半导体制造工艺不断演进的背景下，恒运昌正以创新驱动为核心动力，为国内设备企业提供更加安全、可靠、高性能的核心部件支持，成为推动产业链高质量发展的重要力量。
